拋光的過程有2個，即“干拋光與濕拋光”，拋光磨石在“干與濕”之間當石材產(chǎn)品發(fā)生物理化學作用，干拋光是在石材表面溫度升高使水分蒸發(fā)，導致拋光磨石濃度增大，從而達到強化效果，產(chǎn)品光澤度開始達到了理想要求，光澤度達85度以上或更高。

拋光磨石在被加工產(chǎn)品上拋光，待拋光產(chǎn)品燙手后，將板面加水量水，以起到降溫作用，不允許連續(xù)加水或大量加水，否則，水的潤滑作用將會使拋光達不到理想效果，也不能全部使用干拋光，過高的溫度會燒壞板面，而且會使板面出現(xiàn)裂紋。

一般而言，產(chǎn)品精磨后，產(chǎn)品的光澤度在40~50左右，而有些石材精磨后達不到上面的光澤度，如山西黑、黑金砂、集寧黑等，此類產(chǎn)品精磨后的光澤度只有20~30度之間，用前面的微粒研磨原理解釋不夠一面，這種產(chǎn)品在拋光“干與濕”，溫度的升高，降溫中，強化拋光過程，發(fā)生物理化學反應(yīng)，產(chǎn)品在經(jīng)過“干拋光、濕拋光”中，光澤度逐步提高，光澤度達95度以上。

產(chǎn)生光亮作用的蠟乳液粒徑要求很小，組成比較單一，在皮革表層形成一層均相且連續(xù)的蠟的薄膜，微觀上薄膜很平滑，對光波產(chǎn)生較強烈的反射作用，從而具有光澤感；產(chǎn)生消光作用的蠟乳液粒徑較大，在皮革表面形成一種非均相且微觀上不平整的表面，對光波產(chǎn)生強烈的散射作用，散射作用是消光劑產(chǎn)生消光作用的根本原因。

氧化鈰拋光液

氧化鈰拋光液是以微米或亞微米級CeO2為磨料的氧化鈰研磨液，該研磨液具有分散性好、粒度細、粒度分布均勻、硬度適中等特點。

適用于高精密光學儀器，光學鏡頭，微晶玻璃基板，晶體表面、集成電路光掩模等方面的精密拋光。

巴西棕櫚蠟乳液 包裝規(guī)格：

50KG/桶（塑膠桶）

【泄漏應(yīng)急處理】：隔離泄漏污染區(qū)，限制出入。穿一般作業(yè)工作服。用潔凈的鏟子收集于干燥、潔凈、有蓋的容器中。若大量泄漏，收集回收。

【儲運注意事項】：儲存于陰涼、通風的庫房。遠離火種、熱源。應(yīng)與氧化劑分開存放，切忌混儲。配備相應(yīng)品種和數(shù)量的消防器材。儲區(qū)應(yīng)備有合適的材料收容泄漏物。