制藥廠(chǎng) 用等離子uv光解廢氣除臭凈化設(shè)備 現(xiàn)貨供應(yīng)

術(shù)環(huán)保設(shè)備生產(chǎn)廠(chǎng)家，解決方案涵蓋：VOC有機(jī)廢氣處理、噴漆廢氣處理、焊煙處理、油

霧處理、油煙處理和粉塵處理等，主要產(chǎn)品有：低溫等離子廢氣處理設(shè)備、UV光氧催化氧

化設(shè)備、活性炭吸附設(shè)備、活性碳吸附脫附催化燃燒、污泵碳鋼木齊舞處理器、焊接煙塵凈化器、工業(yè)廢氣凈化設(shè)備、油煙凈化器等。

制藥廠(chǎng) 用等離子uv光解廢氣除臭凈化設(shè)備 現(xiàn)貨供應(yīng)

低溫等離子體廢氣處理設(shè)備

原理介紹

低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài),當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的放電電壓時(shí),氣體被擊穿,產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過(guò)程中雖然電子溫度很高,但重粒子溫度很低,整個(gè)體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài),所以稱(chēng)為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用,使污染物分子在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解,并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到降解污染物的目的。(注:低溫等離子體相對(duì)于高溫等離子體而言,屬于常溫運(yùn)行。)

等離子光解廢氣分解除臭凈化器：

低溫等離子體反應(yīng)區(qū)富含的物質(zhì),如高能電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子等,廢氣中的污染物質(zhì)可與這些具有較高能量的物質(zhì)發(fā)生反應(yīng),使污染物質(zhì)在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解,并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到講解污染物的目的。與傳統(tǒng)的電暈放電形勢(shì)產(chǎn)生的低溫等離子技術(shù)相比較,低溫等離子體技術(shù)放電密度是電暈放電的一千五百倍。

等離子體去除污染物的基本過(guò)程

過(guò)程一：

高能電子的直接轟擊

過(guò)程二

O原子或臭氧的氧化O2+e→2O

過(guò)程三:

OH自由基的氧化

過(guò)程四

分子碎片+氧氣的反應(yīng)

（3）產(chǎn)品性能綜述

低溫等離子體工業(yè)廢氣處理設(shè)備的發(fā)明為化工清潔生產(chǎn)奠定了基礎(chǔ),是近代化學(xué)工業(yè)生產(chǎn)的一次技術(shù)革命。

與目前國(guó)內(nèi)常用的異味氣體治理方法相比較,低溫等離子體工業(yè)廢氣處理技術(shù)具有以下特點(diǎn)：

A介質(zhì)阻擋放電產(chǎn)生電子能量高,低溫等離子體密度大,達(dá)到常用等離子技術(shù)（電暈放電)的一千五百倍,幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作用；

B反應(yīng)速度快,氣體通過(guò)反應(yīng)區(qū)的速度達(dá)到3-15米/秒,即達(dá)到很好的處理效果, 其他技術(shù)氣體通過(guò)反應(yīng)區(qū)的速度0.01米/秒都很難達(dá)到處理效果；

C氣體通過(guò)部分,全部采用陶瓷、石英、碳鋼等防腐蝕材料,電極與廢氣不直接接觸,根本上解決了低溫等離子體技術(shù)設(shè)備腐蝕問(wèn)題；其他技術(shù)是氣體與電極直接接觸,電極在3個(gè)月或1年內(nèi)會(huì)造成嚴(yán)重腐蝕,即使通過(guò)的氣體沒(méi)有腐蝕性,自身所產(chǎn)生的臭氧也會(huì)把電極造成腐蝕;

D主機(jī)為成套工業(yè)廢氣處理裝置,前面配有專(zhuān)用碳鋼,能有效去除廢氣中的粉塵和碳鋼分,操作簡(jiǎn)單