例如在大規(guī)模集成電路生產的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產品將有污染，特別是怕鈉的半導體車間，這種車間溫度不宜超過25度，濕度過高產生的問題更多。

對于大部分潔凈空間，為了防止外界污染侵入，需要保持內部的壓力（靜壓）高于外部的壓力（靜壓）。壓力差的維持一般應符合以下原則：

1．潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。

2.潔凈度級別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級別低的空間的壓力。

壓力差的維持依靠新風量，這個新風量要能補償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風量。所以壓力差的物理意義就是漏泄（或滲透）風量通過潔凈室的各種縫隙時的阻力。

從確保潔凈室內相對濕度的精度而言，上述的淋水、高壓噴霧、濕膜等水加濕方法其控制的精度不高，故當潔凈室內相對濕度精度要求≤±10%時不采用。而采用噴干蒸汽和電熱（電極）式加濕的方法。噴干蒸汽的加濕方法要注意干蒸汽加濕器有一個噴蒸汽效率的問題，并非噴入空調箱內的蒸汽全部加入到空調送風中，而其中有一部分變成凝結水排放出來。因此，選擇干蒸汽加濕的加濕量時應考慮其噴蒸的效率。有的廠家給出的噴蒸效率為70%。

光學微電子凈化工程之定義為將一定空間范圍內之空氣中的微塵粒子、有害空氣、等之污染物排除，并將室內之溫濕度、潔凈度、室內壓力、氣流速度與氣流分布、噪音震動及照明、靜電控制在某一需求范圍內，而所給于特別設計之密閉空間。