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硅面平整化之后,表面會有研磨液研磨之后的顆粒殘留,會大大影響成品率,所以 還需要使用清洗液對表面進行清洗,業(yè)界主要使用的方法有機械刷片法和超聲波清洗法。機械刷片法使用聚乙烯醇制成的刷子,可以有效去除硅片表面殘留物且不損 傷硅片表面,但對去除金屬雜質(zhì)作用不突出。毛刷與硅片轉(zhuǎn)速、毛刷與硅片之間的 壓力都是影響終清洗效果的重要因素。超聲波清洗利用幾百至幾千壓強的微激波 擊碎殘留物,同時使有機物迅速分解乳化。這種方法的優(yōu)點是速度快,適用于去除 大顆粒殘留,但對小于1um的顆粒殘留清洗效果下降。聲波的頻率、能量、清洗液 的化學(xué)成分以及濃度是影響清洗效果的主要因素。
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