凈室系統(tǒng)，制造匹配規(guī)格之潔凈空氣，連續(xù)且穩(wěn)定供給足夠之潔凈空氣于使用端，凈室內(nèi)的制造區(qū)（FAB）。一般而言，制造潔凈空氣之氣源為外氣（OUTSIDE AIR），經(jīng)過凈室系統(tǒng)各種處理單元設備之處理后進而得到匹配規(guī)格之潔凈空氣。以下簡單介紹其處理流程：外氣經(jīng)由外氣空調(diào)箱（Make-up Air Unit或MAU）初步過濾微塵（particle）并控制其溫濕度后，經(jīng)由回風管道間（Mech. Chase），將凈室之循環(huán)風量與外氣空調(diào)箱之補充風量混合，經(jīng)由冷卻盤管（Dry Cooling Coil）將回風管道間之回風降溫至凈室要求之規(guī)格，透過循環(huán)風扇（Fan Filter Unit或FFU）帶動凈室的氣流循環(huán)帶走微塵及熱量，后經(jīng)過超高性能過濾網(wǎng)（Ultra-low penetration air或ULPA Filter）過濾后，供應至Fab區(qū)。

溫濕度要求比一般空調(diào)高一般空調(diào)要求在18°C~26 °C之間，相對濕度則在40%~65%之間；凈室空調(diào)必須控制在22°C~24 °C之間，相對濕度則在45%~55%。

恒溫恒濕控制由于半導體制程對溫濕度變化的大小極為敏感，故在凈室大部分區(qū)域必須控制在± 1°C及± 3%之內(nèi)。

半導體廠凈室室內(nèi)壓力大小半導體廠凈室室內(nèi)壓力必須比室外高些許，除了為避免室外的溫、濕度、微粒影響凈室生產(chǎn)區(qū)的環(huán)境條件外，并可延長凈室ULPAfilter的壽命，但不能無條件增加，如此將使向外逸散的潔凈空氣增加而增加運轉(zhuǎn)成本。

氣流分布須均勻凈室空調(diào)為帶走凈室內(nèi)所產(chǎn)生的微塵粒子以維持潔凈度故除了氣流速度須達到一定之要求標準外，氣流的流線形狀也必須依不同的凈室檔次加以適當?shù)目刂啤?/p>

凈室是一種以合理的成本開發(fā)高質(zhì)量軟件的基于理論、面向工作組的方法。凈室是基于理論的，因為堅實的理論基礎是任何工程學科所不可缺少的。再好的管理也代替不了理論基礎。凈室是面向工作組的，因為軟件是由人開發(fā)出來的，并且理論必須簡化到實際應用才能引導人的創(chuàng)造力和協(xié)作精神。凈室是針對經(jīng)濟實用軟件的生產(chǎn)的，因為在現(xiàn)實生活中，業(yè)務和資源的限制必須在軟件工程中予以滿足。后，凈室是針對高質(zhì)量軟件的生產(chǎn)的，因為高質(zhì)量改進管理，降低風險及成本，滿足用戶需求，提供競爭優(yōu)勢。