凈室的定義為：將空間范圍內(nèi)之空氣中的微塵粒子等污染物排除，而得到一個相當潔凈的環(huán)境。亦即：這個環(huán)境中的微塵粒子相當少，稱之為凈室。凈室被廣泛地應用在對環(huán)境污染特別敏感的行業(yè)，例如半導體生產(chǎn)、生化技術、生物技術、精密機械、制藥、和醫(yī)院內(nèi)的手術室等行業(yè)等，其中以半導體業(yè)其對室內(nèi)之溫濕度、潔凈度要求尤其嚴格、故其必需控制在某一個需求范圍內(nèi)，才不會對制程產(chǎn)生影響。作為生產(chǎn)設施，凈室可以占據(jù)廠房很多位置。

凈室系統(tǒng)，制造匹配規(guī)格之潔凈空氣，連續(xù)且穩(wěn)定供給足夠之潔凈空氣于使用端，凈室內(nèi)的制造區(qū)（FAB）。一般而言，制造潔凈空氣之氣源為外氣（OUTSIDE AIR），經(jīng)過凈室系統(tǒng)各種處理單元設備之處理后進而得到匹配規(guī)格之潔凈空氣。以下簡單介紹其處理流程：外氣經(jīng)由外氣空調(diào)箱（Make-up Air Unit或MAU）初步過濾微塵（particle）并控制其溫濕度后，經(jīng)由回風管道間（Mech. Chase），將凈室之循環(huán)風量與外氣空調(diào)箱之補充風量混合，經(jīng)由冷卻盤管（Dry Cooling Coil）將回風管道間之回風降溫至凈室要求之規(guī)格，透過循環(huán)風扇（Fan Filter Unit或FFU）帶動凈室的氣流循環(huán)帶走微塵及熱量，后經(jīng)過超高性能過濾網(wǎng)（Ultra-low penetration air或ULPA Filter）過濾后，供應至Fab區(qū)。

半導體廠凈室室內(nèi)壓力大小半導體廠凈室室內(nèi)壓力必須比室外高些許，除了為避免室外的溫、濕度、微粒影響凈室生產(chǎn)區(qū)的環(huán)境條件外，并可延長凈室ULPAfilter的壽命，但不能無條件增加，如此將使向外逸散的潔凈空氣增加而增加運轉成本。

氣流分布須均勻凈室空調(diào)為帶走凈室內(nèi)所產(chǎn)生的微塵粒子以維持潔凈度故除了氣流速度須達到一定之要求標準外，氣流的流線形狀也必須依不同的凈室檔次加以適當?shù)目刂啤?/p>

單層廠房在滿足一定建筑模數(shù)要求的基礎上視工藝需要確定其建筑寬度（跨度）、長度和高度。廠房的跨度B：一般為6、9、12、15、18、21、24、27、30、36m……。廠房的長度L：少則幾十米，多則數(shù)百米。廠房的高度H：低的一般5～6m，高的可達30～40m，甚至更高。廠房的跨度和高度是廠房照明設計中考慮的主要因素。

另外，根據(jù)工業(yè)生產(chǎn)連續(xù)性及工段間產(chǎn)品運輸?shù)男枰鄶?shù)工業(yè)廠房內(nèi)設有吊車，其起重量輕的可為3～5t，大的可達數(shù)百噸（機械行業(yè)單臺吊車起重量可達800t）。因此，工廠照明通常采用裝在屋架上的燈具來實現(xiàn)。