銦回收面臨的主要挑戰(zhàn)包括銦在電子設備中的低濃度和與其他金屬的合金化。傳統(tǒng)的回收方法難以有效提取，需要采用濕法冶金或火法冶金等先進技術。同時，回收過程中需確保電子廢物流的分類和處理，以減少污染物對回收過程的影響。 銦回收具有重要的環(huán)保和經(jīng)濟效益。通過回收廢舊靶材中的銦，可以減少對新資源的開采，降低環(huán)境污染，實現(xiàn)資源的可持續(xù)利用。此外，回收銦還能穩(wěn)定市場供應，降低生產(chǎn)成本，促進相關產(chǎn)業(yè)的可持續(xù)發(fā)展。

隨著高科技產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展，稀有金屬銦的需求日益增長。銦靶材與ITO靶材作為關鍵材料，在電子、光電及半導體等領域發(fā)揮著重要作用。本文旨在探討銦靶材與ITO靶材的區(qū)別，以及它們在回收技術、環(huán)保與經(jīng)濟效益方面的差異。

物理分離法中的機械剝離技術，是通過破碎、篩分和浮選等方法，將ITO涂層與玻璃基板進行分離。隨后，再結合化學處理對分離出的ITO涂層進行銦的提取。這種方法主要適用于LCD面板的回收，但需注意，其純度可能相對較低。再生銦的應用廣泛，包括重新制備ITO靶材，以及在半導體、合金等領域的使用。從經(jīng)濟角度看，回收1噸銦可以減少大約50噸原礦的開采，同時，回收銦的成本相比原生銦要低30%~50%。綜上所述，ITO銦的回收不僅對環(huán)境友好，還能帶來顯著的經(jīng)濟效益。隨著科技的不斷進步和電子廢棄物數(shù)量的不斷增加，且環(huán)保的回收方案將成為稀散金屬可持續(xù)利用的關鍵所在。

主流回收工藝分類 當前ITO靶材回收主要圍繞銦元素提取展開，主要分為物理法、化學法和聯(lián)合工藝三類： 熔煉過濾法（物理法） 通過高溫熔煉結合篩網(wǎng)過濾實現(xiàn)銦與其他金屬的分離。具體流程包括： 廢銦塊在625℃熔煉爐中熔化，利用鐵/不銹鋼篩網(wǎng)（30-40目）截留固態(tài)雜質(zhì)鐵、鋁。 熔融銦通過重力滴落收集，殘留物可二次熔煉提升回收率至72%。 該方法具有設備簡單（圖1）、周期短（單次處理≤60分鐘）的優(yōu)勢，適用于含銦量70%-90%的廢靶材。但需控溫（±5℃），否則雜質(zhì)金屬可能熔化導致純度下降至95%以下。