主流回收工藝分類 當(dāng)前ITO靶材回收主要圍繞銦元素提取展開(kāi)，主要分為物理法、化學(xué)法和聯(lián)合工藝三類： 熔煉過(guò)濾法（物理法） 通過(guò)高溫熔煉結(jié)合篩網(wǎng)過(guò)濾實(shí)現(xiàn)銦與其他金屬的分離。具體流程包括： 廢銦塊在625℃熔煉爐中熔化，利用鐵/不銹鋼篩網(wǎng)（30-40目）截留固態(tài)雜質(zhì)鐵、鋁。 熔融銦通過(guò)重力滴落收集，殘留物可二次熔煉提升回收率至72%。 該方法具有設(shè)備簡(jiǎn)單（圖1）、周期短（單次處理≤60分鐘）的優(yōu)勢(shì)，適用于含銦量70%-90%的廢靶材。但需控溫（±5℃），否則雜質(zhì)金屬可能熔化導(dǎo)致純度下降至95%以下。

當(dāng)前，銦的主要消費(fèi)領(lǐng)域集中在ITO靶材上，其占比高達(dá)約70%。此外，半導(dǎo)體制造和合金領(lǐng)域的需求也不容忽視，兩者合計(jì)占總消費(fèi)量的24%，而其他研究領(lǐng)域則占據(jù)了6%。然而，由于ITO制造過(guò)程中靶材利用率僅達(dá)30%左右，導(dǎo)致大量剩余材料成為廢料。加之電子廢棄物的激增，銦回收已成為資源可持續(xù)利用不可或缺的一環(huán)。隨著技術(shù)進(jìn)步和應(yīng)用需求的增長(zhǎng)，ITO廢料回收能有效減少原礦資源消耗，實(shí)現(xiàn)資源的可持續(xù)性發(fā)展。

ITO靶材，即銦錫氧化物靶材，主要由氧化銦（In?O?）和氧化錫（SnO?）組成，其中氧化銦占比高達(dá)90%。ITO靶材因其優(yōu)異的導(dǎo)電性和高透光性，成為液晶顯示器（LCD）、觸摸屏及太陽(yáng)能電池等光電設(shè)備的理想材料。其晶體結(jié)構(gòu)穩(wěn)定，電導(dǎo)率高，確保了設(shè)備的運(yùn)行。

ITO靶材回收流程 ITO靶材的回收流程通常包括以下幾個(gè)步驟： 1. 收集與分類：將廢舊ITO靶材進(jìn)行收集，并根據(jù)其種類、純度等進(jìn)行分類。 2. 破碎與研磨：將分類后的靶材進(jìn)行破碎和研磨，使其變成粉末狀，便于后續(xù)處理。 3. 化學(xué)分離：采用化學(xué)方法將粉末中的銦、錫等元素進(jìn)行有效分離。 4. 提純與精煉：對(duì)分離出的銦、錫等元素進(jìn)行提純和精煉，得到高純度的金屬產(chǎn)品。 5. 再加工：將提純后的金屬產(chǎn)品加工成新的靶材或其他產(chǎn)品，實(shí)現(xiàn)資源的循環(huán)利用。